7年環(huán)保設備和機械加工生產(chǎn)經(jīng)驗,應用于各大電廠(chǎng)、鋼廠(chǎng)、農業(yè)、市政、工業(yè)
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科技部立項支持的節水減排技術(shù), 相關(guān)技術(shù)受?chē)沂跈鄬?zhuān)利保護
專(zhuān)利號:ZL200920081763.8,ZL201020114137.7,ZL201020114148.5.
l 型號:CWES-UET025
l 最大工作壓力:1.0MPa
l 處理流量:25m3/h
l 控制:PLC控制
1特點(diǎn)
l 電解是在外部電流作用下一個(gè)電子導體(特種金屬制成的電極)和一個(gè)離子導體(水中的電解質(zhì))之間發(fā)生的系列化學(xué)反應。
l 電解制造了一個(gè)氧化反應和還原反應分別進(jìn)行的環(huán)境。
l 電解過(guò)程可以控制和測量,從而可以精確預知處理后水的水質(zhì)。
l 減少化學(xué)藥劑使用,降低藥劑成本,降低污染。
l 環(huán)境友好。
l 處理效果不隨被處理水的條件或組成而發(fā)生變化。
2 CWES-UET優(yōu)勢
| 減少停車(chē)時(shí)間 |
| 安全性和環(huán)境利益 |
| 防治水垢 |
| 顯著(zhù)節約用水 |
| 控制細菌(包括軍團菌)和藻類(lèi)滋生 |
| 不會(huì )有員工暴露于危險化學(xué)品嘗 |
| 防止腐蝕 |
| 很少有化學(xué)藥劑排放到環(huán)境中 |
| 不會(huì )在水中形成污染物 |
| 沒(méi)有藥劑或者包裝拋棄問(wèn)題 |
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| 節省主要費用 |
| 無(wú)故障的服務(wù)和操作 |
| 減少排污費 |
| 維護和服務(wù)都由當地公司來(lái)完成 |
| 大大減少藥劑費用或者其它供應費用 |
| 完全自動(dòng)操作系統 |
| 維護量最小化的簡(jiǎn)潔系統 |
| 受約束的許可和規章制度最少 |
| 微電腦監控和自動(dòng)排污控制 |
| 無(wú)需藥劑添加系統(泵、閥門(mén)等) |
| 勞動(dòng)力和雇員培訓費用最小化 |
| 無(wú)需軟化水 |
3材質(zhì)與防腐
l 反應室殼體:涂襯環(huán)氧樹(shù)脂的碳鋼
l 管道:內外涂襯環(huán)氧防腐的碳鋼管道
l 閥門(mén):鑄鐵、PVC等
l 控制單元:黃銅、不銹鋼、PVC
l 密封圈:橡膠EPDM
反應室殼體和管道均進(jìn)行了嚴格的防腐處理。設備表面處理過(guò)程為:焊縫打磨整齊、噴砂至金屬本色、吹干燥壓縮空氣、去油,涂襯環(huán)氧樹(shù)脂粉,送入溫度高達200℃的高溫烤箱烘烤40分鐘,最后包裝。環(huán)氧厚度達130微米,漆層堅固、耐磨損,確保設備使用壽命。
CWES-UET025系統包含:淺層介質(zhì)過(guò)濾器1臺;電解預結垢單元1個(gè)。
在本項目中,采用循環(huán)水旁流處理方式。如下圖所示。
安裝圖一
安裝圖二
循環(huán)水電解系統安裝在冷卻塔旁的循環(huán)水回水處,依靠回水壓力進(jìn)行過(guò)濾和自動(dòng)反沖洗,屬于最節能的一種旁路安裝方式。這種方式對回水壓力有要求,一般要求大于0.2 MPa。
4.CWES電解殺菌除垢的工作機理
CWES電解殺菌除垢系統要求循環(huán)水流過(guò)CWES反應室,以便拿掉適當的鈣鎂離子礦物質(zhì)和殺死細菌。在反應室中發(fā)生的這種實(shí)際的化學(xué)反應,不同于任何一種其他的機械式和電磁式的處理方式。
1 陰極化學(xué)反應
通過(guò)電解,水中的礦物質(zhì)沉淀出來(lái)并被去除,這就是CWES的工作原理。反應室中維持的工作電流大概為直流7~25安培。結果是,在陰極(反應室內壁)附近形成高濃度的氫氧根,這種升高的pH環(huán)境(pH大約為13),讓易結垢的礦物質(zhì)預先結垢,并從水中析出。實(shí)際上,陰極附近局部的高氫氧根濃度形成的化學(xué)環(huán)境,和用石灰處理形成的冷石灰軟化環(huán)境類(lèi)似,主要用來(lái)去除水中的鈣、鎂離子。
電流也將一部分的氯離子轉化成游離氯,同時(shí)產(chǎn)生微量臭氧、氧自由基、氫氧根自由基和雙氧水。這一系列產(chǎn)物提供了殺生效應,結合安培電流及局部高的和低的(陽(yáng)極)pH區域,維持了CWES之外的一個(gè)事實(shí)上的消毒環(huán)境。
2 陽(yáng)極化學(xué)反應
反應室本身是一個(gè)碳鋼制造的圓柱狀的容器。固定在碳鋼蓋子上有兩個(gè)陽(yáng)極和一個(gè)電動(dòng)刮刀。陽(yáng)極柱直徑大約為1英寸,直伸到容器底部。電極用特殊鈦鎳氧化物制成,以便耐受局部低pH環(huán)境?;@式塑料刮刀每次清洗時(shí)用來(lái)擦掉內壁預沉淀出來(lái)的礦物質(zhì)。
3殺菌原理
由上可知,陰極和陽(yáng)極的化學(xué)反應,配合特別的流量設計,反復地將細菌暴露于破壞性的環(huán)境中,每次流經(jīng)反應室就會(huì )暴露在極高和極低的pH、電流、和其它幾種氧化消毒環(huán)境之中。
l CWES環(huán)境:
CWES以旁流的方式安裝,也就是說(shuō),大約5%的循環(huán)水量取出來(lái)經(jīng)過(guò)CWES處理后再回到系統中去。旁流量設計時(shí)基于系統中所有的循環(huán)水量每天經(jīng)過(guò)CWES系統大約1-2次。因此,相對于保有水量2000方,每個(gè)來(lái)自空氣中或者水中懸浮物里的細菌,都會(huì )在24小時(shí)之內經(jīng)過(guò)苛刻的CWES環(huán)境大約2-3次,從而達到抑制、殺滅細菌的功效。
l pH值作用:
微生物對多種突然的環(huán)境變化很敏感。其中一個(gè)尤其敏感的參數是pH值(水的酸度或者堿度變化)。實(shí)際上,水的pH值哪怕簡(jiǎn)單地改變很少幾個(gè)單位,就能夠事實(shí)上消除某些微生物的生長(cháng)。如前所述,陰極附近會(huì )形成高濃度的氫氧根,從而在反應室內壁附近造成極高的堿性環(huán)境,pH值達到13。相反,在陽(yáng)極附近,一直維持著(zhù)低pH的酸性環(huán)境。
由于寄生在冷卻水懸浮物上面的細菌適應了輕微弱堿性環(huán)境,pH值在8.5到9.0之間。這個(gè)pH值是使用CWES處理冷卻循環(huán)水時(shí)控制的范圍。于是,因為冷卻水進(jìn)入和離開(kāi)反應室,不斷地循環(huán)就會(huì )反復將細菌置于低pH值區和高pH值區。結果就是細菌每次通過(guò)反應室時(shí)都經(jīng)歷了多次變化的pH值環(huán)境。
l 電流作用:
CWES在反應室中維持大約20~35安培15~30伏特的直流電流。因此,細菌每次經(jīng)過(guò)反應室時(shí)都會(huì )暴露在該電流中,會(huì )電解而死。
l 產(chǎn)生氯氣、臭氧和氧自由基:
由于陰極發(fā)生的化學(xué)反應,流經(jīng)反應室的氯離子中約10%~30%的氯離子轉化成游離氯,因此循環(huán)水中余氯維持一個(gè)穩定的數量,約0.1~0.5ppm。這個(gè)余氯,就像向水中添加漂白粉一樣,通過(guò)氧化作用殺死細菌。同時(shí),在陰極還產(chǎn)生了臭氧和氧自由基,這兩個(gè)氧化性物質(zhì),和氯類(lèi)似,具有殺生劑的作用。
4工作過(guò)程
電解除垢器工作時(shí),進(jìn)水閥門(mén)、出水閥門(mén)打開(kāi),原水從進(jìn)水閥門(mén)進(jìn)入,在反應室內進(jìn)行電解殺菌電化學(xué)作用,讓易結垢的礦物質(zhì)預先結垢,并從水中析出,并附著(zhù)在反應室內壁(陰極)上。因反應有微量氫氣產(chǎn)生,該水垢為疏松的水垢。
當內壁上的水垢積累到一定的量需要對其進(jìn)行清洗,清洗周期和清洗時(shí)間取決于每天要去除的礦物質(zhì)量。